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微細なプロセスを実現する筆頭技術はEUV露光装置だが、最近、キヤノンが5nmプロセス相当のパターンを形成可能なナノインプリント装置を商用化したことを発表するなど、新たな微細化に向けたアプローチの選択肢も出てきた (2023年10月に編集部撮影)

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