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図4 ナノシート(NS)、フォークシート(FS)、およびCFET(モノリシックおよびシーケンシャル)それぞれのゲート断面模式図。基本的なシーケンシャルCFET(v1)は、モノリシックCFETより幅が広く高さが高くなっている。最適化されたフロー(セルフアラインゲートマージ(v2)およびゲートキャップなし(v3)を含む)により、シーケンシャルCFETは面積消費の点でモノリシックCFETに近づいている(2022 VLSI Symposiumで発表)

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