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九大、絶縁体垂直磁化膜「TmIG」の大面積成膜が可能な技術を開発

オンアクシススパッタリングのイメージ。大きなカソードを用いることで、大面積薄膜の作製が可能な手法だ。これまで、TmIGには適さないとされてきたが、今回、TmIGの大面積成膜に同手法を適用できることが明らかにされた(出所:九大プレスリリースPDF)

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