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レポート

キヤノン、半導体露光装置の生産性を向上させる高精度ウェハアライメント計測装置を発売

回路パターンを形成するレイヤによっては、アライメントマークが数百点に増加することも増えてきており、それを露光装置内のアライメント計測で行うと時間がかかり、前のウェハの露光処理が終わってしまっていると、その間の生産性が低下することが課題となっていたという (画像提供:キヤノン)

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