マイナビニュースマイナビ
お知らせ
酷似サイトにご注意ください

図の左から右に照射されたレーザーにより加熱されたプラズマ(EUV光源)が中心に集まる流れを持ち、特に図の明るい領域から効率よくEUV光が放出されることが判明した。中心部への流れはプラズマが周辺に拡散する速度を抑え、周辺のミラーの汚染の低減にも効果的と考えられるという (出所:北大プレスリリースPDF)

13
記事ページに戻る

編集部が選ぶ関連記事

このカテゴリーについて

インテルや東芝といった半導体メーカーや、CPU、メモリなどの半導体デバイスに関わる情報、市場トレンドといったホットなニュースを毎日更新。注目のIoTや自動運転など、半導体の適用範囲の拡大とともに成長が続く半導体業界の話題を詳細な説明付きで紹介します。