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非真空の印刷法による高品質SiGe半導体の製造法、名大などが開発

(上)今回の研究におけるSiGe半導体膜の製造プロセス。(左下)ペーストを印刷した後の試料の電子顕微鏡画像。(右下)熱処理後に残留ペーストを除去した後の様子 (出所:名大プレスリリースPDF)

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