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光照射と加熱で絶縁体と金属の繰り返し変化を実現する物質、東工大などが開発

(a)太陽光照射(黒色)および紫外レーザ照射(波長:193nm)(赤色)による、YO_xH_yエピタキシャル薄膜の電気抵抗率変化。(b)紫外レーザ照射(波長:193nm)後のYO_xH_yエピタキシャル薄膜における電気抵抗率の温度依存性。(c)紫外レーザ照射後における電気抵抗の時間依存性 (出所:量研機構Webサイト)

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