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レポート

ムーアの法則は終わらない、imecが1nm未満プロセスに向けたロードマップを公開

図3 imecのロジックプロセス・デバイスの微細化ロードマップ。時間軸は先進半導体企業の生産開始年に合わせてある。imecではすでに1nm(10Å)を超えたプロセスの研究開発を進めているほか、高NA EUVについては、試作機の出荷から量産機の生産導入まで3年を目標としている

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