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九工大など、磁気メモリの小型化・大容量化につながる技術を開発

(左)らせん磁気構造中に生成されるキラルソリトンの模式図。(a)らせん磁性状態。(b)キラルソリトン格子状態。(c)強制強磁性状態。(右)左の(b)のキラルソリトン格子状態をグラフ化したもの (出所:九州工業大学Webサイト)

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