HIRIBAグループで半導体事業を担う堀場エステックは1月14日、超薄型マスフローコントローラー「DZ-100」シリーズの最新製品「DZ-107」を発売したことを発表した。
同製品は近年の半導体デバイスの微細化や高集積化におけるエッチングや成膜工程などにおけるマスフローコントローラに対する要求水準の高度化に対応することを目指して開発されたマスフローコントローラ。新開発の制御バルブを採用することで、フルスケール流量を従来機の3SLM(Standard Liters per Minute)から約7倍の20SLMに大流量化したことで、エッチングだけでなくCVDやALDといった大流量のガス制御を必要とする成膜技術におけるアプリケーションにも幅広く対応することが可能となったという。
また、精密な加工を必要とする最先端半導体の製造プロセスに用いられるガスの中には、常温では液化してしまうものがあるためマスフローコントローラを含めたガスラインでの安定的な温度制御が重要となっており、同製品は使用温度範囲の上限を従来機の45℃から60℃へと引き上げることで対応可能なガス種を拡大。エッチングおよび成膜プロセスの高度化にも対応することを可能としたともする。