朝日工業社は、半導体やFPD工場の製造工程向け空調設備である精密空調機「ASCシリーズ」の上位モデルとして、温湿度制御を向上した「高性能温湿調機」を発表した。
同空調機は従来機種の温度制御性能±0.5℃から、±0.05℃、湿度制御±0.5％RHの制御へと性能を向上させたモデルとなる。
すでに2nmプロセスを用いた半導体量産を目指すRapidus(ラピダス)が建設を進めている工場の半導体製造工程用環境装置として納入が行われたという。同工場内では、半導体露光装置周りの密閉空間に、温湿度を制御したエアーを供給することで、露光工程の生産性向上を図ることを可能にするという。
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