アキレスは12月6日、同社が独自に開発したナノ分散ポリピロール液を用いためっき処理技術「ポリピロールめっき法」を用いて、ガラス基板への高密着めっき形成を可能にする技術を開発したことを発表した。

同めっき法は、同社が2003年より開発を進めてきた導電性高分子であるポリピロールを活用した処理技術で、「ナノ分散ポリピロール液を塗工した部分にのみ、めっきが析出する」、「さまざまな基材への密着性が高いめっき処理が可能」、「エッチング処理が不要のため環境負荷が低い」などといった特徴を有しており、さまざまな難めっき素材に対応する密着性の高いめっき技術を提供してきたという。

これまでガラス基板に密着性の高いめっき膜を形成することは難易度が高いとされてきたが、今回、同社はポリピロールめっき法を活用することで、低温・常圧プロセスで密着性の高いめっき膜をガラス基板に形成する技術を開発することに成功。同社では今後、半導体パッケージ基板の新規材料として期待されるガラスに対して、同めっき法を活用する形で微細配線形成を実現する研究開発を進めていくのと並行する形で量産技術の確立も図っていくことで、次世代半導体の製造分野での活用を促していきたいとしている。

この記事は
Members+会員の方のみ御覧いただけます

ログイン／無料会員登録

会員サービスの詳細はこちら