日本電気硝子は12月4日、2.5D/3Dパッケージをはじめとする先端半導体パッケージ基板の製造工程の効率化に向けて、汎用性が高いCO2レーザーで穴あけ加工ができる新型ガラスコア基板の開発に着手したことを発表した。
コア基板は、半導体チップとマザーボード(プリント基板)を接続するための中間基板(サブストレート)で、例えばチップレットでは、中間のシリコンインターポーザおよび再配線層(RDL)で構成される部分となるものの、高機能化に向けた搭載されるダイの大型化やダイ数の増加に伴い、コア基板の大型化も求められるようになっている。
コア基板の現在の主流は有機樹脂が用いられているが、大型化が進むと、寸法にばらつきが生じやすくなるほか、熱膨張係数の違いによる反りの発生、大型化に耐えられるだけの剛性の確保、高密度集積されたダイから生じる放熱性能の向上などの課題があるとされ、それらを解決できる素材としてガラスの活用が期待されている。
しかし、ガラス製コア基板の場合、基板表面と裏面をつなぐための孔(ビア)を形成するためには、レーザーによる改質と酸/アルカリを用いたエッチングを組み合わせた工程が必要となっており、技術的に難しいこと、ならびに加工時間や相応の設備投資が必要になることなどの課題があり、普及を促進するためには、その解決が求められている状況となっている。