Tower、300mmウェハベースのシリコンフォトニクスプロセスを標準製品としてリリース

Tower Semiconductorは11月26日、300mmシリコンフォトニクス(SiPho)プロセスを自社の標準ファウンドリ製品としてリリースすると発表した。

同プロセスは、すでに提供されている同社の200mm(PH18)プラットフォームを補完するもので、次世代データ通信市場における高まる高速データ通信ニーズを満たすカスタマイズされた先端ソリューションを提供することを可能にするという。