Micron Technologyは9月30日、広島の生産拠点「マイクロンメモリジャパン広島工場」における生産計画が、日本政府から「特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律」に基づく特定半導体生産施設整備等計画に認定され、新工場建設助成に最大約465億円の交付を受けることが決まったことを発表した。

Micronではこの支援を活用し、データセンターや5G、人工知能(AI)技術に利用される次世代の1β DRAMメモリの製造能力を強化し、その開発を加速させるとしている。

西村康稔 経済産業大臣は9月30日の記者会見にて、Micron Technologyと同社の日本子会社による広島県での先端メモリ半導体の生産計画を認定し、最大で約465億円の支援を行うと述べたが、助成の詳細には言及しなかった。

今回の決定を受け、Micron Technologyのグローバルオペレーション担当エグゼクティブバイスプレジデントのマニッシュ・バーティア(Manish Bhatia)氏は「Micronは、日本政府の支援に感謝するとともに、半導体生産とイノベーションを成長・発展させる日本政府の道程において、長年の業界パートナーであり続けていることを誇りに思う。Micronは技術リーダーとして、世界中の拠点で最先端のメモリ製造に取り組んでおり、日本での事業の成功を政府が支援してくれたことを嬉しく思う」とのコメントを発表している。

なお、特定半導体生産施設整備等計画としては、すでにTSMCとソニー・デンソーによる合弁半導体企業「Japan Advanced Semiconductor Manufacturing(JASM)」の熊本の新工場建設に4760億円、キオクシア・Western Digitalが共同出資のキオクシア四日市工場の新製造棟建設に929億円の補助金支給が決定している。

  • マイクロンメモリジャパン広島工場

    マイクロンメモリジャパン広島工場 (2019年に編集部撮影)