半導体材料市場調査会社である米TECHCETは、2021年の半導体製造用フォトレジストの市場規模が前年比11％増の20億ドル超となること、ならびにその後も2025年まで年平均成長率7％で成長するとの予測を発表した。

また、2021年のレジスト関連製品(現像剤、溶剤、エッジ・ビード・リムーバー、反射防止コーティング剤)市場は同9.9％増、2025年までの年平均成長率は7.1％になると予測している。

同社では、「Intel、TSMC、Samsungによる新しいファブが稼働するようになれば、レジストの需要と売り上げはさらに増加する」との見通しを示している。

  • TECHCET

    フォトレジト関連製品市場の動向予測。下からEBR(Edge Bead Remover:ウェハ縁部レジスト除去液)、プリウェット(レジストが現像液となじむようにする薬液)、NTDデベロッパ(Negative Tone Developer:ネガレジスト現像液)、NTDリンス、PTDデベロッパ(Positive Tone Developer:ポジレジスト現像液) (出所:TECHCET)

レジスト種類別の動向としては、EUVレジストは力強い成長を示すと予測されており、2020-2025年の年平均成長率は60％と高く、ロジックデバイスに加えてDRAMと3DNANDの生産が牽引すると予想される。また、3D NANDやロジックデバイスで主に使用されるArF/ArF液浸(ArFi)レジストは、一部の工程でEUVレジストが取って代わり始めるとの見方から、今後の年平均成長率は6.4％と予測されているほか、レガシープロセスで多く使われるKrFレジストも、年平均成長率7％で安定した成長が見込めるとしている。中国のサプライヤが、KrFレジストをチップメーカーから認証を得るための取り組みを加速しているという。すでにi線とG線レジストの供給は進めら得ており、より高度なプロセスへと技術の発展を目論んでいるようだ。

なお、同社では、2021年のウェハ投入数量について、モバイルコンピューティング、携帯電話、サーバ、自動車の各セグメントの力強い成長により、ロジックデバイスで前年比13％以上、3D NANDで同18％以上の増加と予想している。