SEMIは5月3日(米国時間)、SEMI Silicon Manufacturers Group(SMG)によるシリコンウェハ業界の分析結果をもとに、2021年第1四半期のシリコンウェハ出荷面積が前四半期比4％増、前年同期比14％増の33億3,700万平方インチとなり、過去最高を記録したと発表した。

これまでの過去最高は2018年第3四半期に記録した32億5,500万平方インチであったという。SEMIによると、ロジックとファウンドリがシリコンウェハに対する強い需要をけん引したとするほか、メモリ市場も回復傾向にあり、それが同四半期の出荷面積を押し上げる結果となったとしている。

なお、SEMI SMGで対象としているウェハは、ウェハメーカーからエンドユーザーに出荷されたバージンテストウェハ、エピタキシャルウェハを含むポリッシュドウェハおよびノンポリッシュドウェハとなっている。

  • シリコンウェハ出荷推移

    半導体用シリコンウェハの四半期別出荷面積推移 (出所:SEMI)