キヤノンは7月20日、ナノインプリント技術を用いた量産向け半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を、東芝メモリの四日市工場に納入したことを発表した。これにより、ナノインプリント技術を用いた半導体メモリの量産に向けた開発をさらに加速していくという。

「FPA-1200NZ2C」

ナノインプリント技術は、マスクと呼ばれる型をウェハ上のレジストにスタンプのように直接押し付けることで、マスクの回路パターンを転写するもので、従来の光露光装置に比べて安価にパターンを描けることが特長だ。

ナノインプリント技術は、光露光法よりも容易にパターンを形成することができる

キヤノンは産業機器を新規事業の4つの柱の1つと位置付けており、ナノインプリント半導体製造装置の実用化により、産業機器分野の事業拡大を確実なものにしていく考えだ。