ウシオ電機、高輝度EUV光源搭載機による研究・評価サービスの受付開始

ウシオ電機は、同社の高輝度EUV光源を搭載したオランダ応用科学研究機構(The Netherlands Organization for Applied Scientific Research: 以下、TNO)のEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」が正式オープンし、EUV関連企業や機関などを対象に、光学部品やマスク、ペリクル、センサー等の各種研究・評価サービスの受付を開始したことを発表した。

今回、サービスの受付を開始した「EBL2」は、サンプルをハンドリングから光照射、評価まで一貫して真空環境でリアルタイム(in-situ)に計測できるのが特徴。ウシオの高輝度・高出力EUV光源により、6インチマスクまで対応した大面積露光評価が可能で、評価期間の短縮にも貢献している。

また、この件に関して、TNOの戦略顧客担当役員であるWilbert Staring氏は「ウシオは、オリジナリティにあふれた設備であるEBL2の主要パートナーとして、開発・製造において極めて重要な役割を果たし多大な貢献をしたことは言うまでもありません」とコメントしている。

一方、ウシオ電機は、今後もEUV露光プロセスの量産技術確立に向け、高精細マスク検査用光源技術をさらに進展させ、最先端の半導体製造プロセスの進化に貢献していくとしている。

なお、オランダ応用科学研究機構(TNO)は、 科学技術分野における応用科学研究を行うことを目的として オランダ議会によって1932年に設立された、オランダ・ハーグに本拠を置く中立の総合受託試験研究機関。