KLA、10nm以降のマスク技術に対応したレチクル検査技術を発表

KLA-Tencorは8月16日(米国時間)、10nm以降のマスク技術に対応したレチクル検査装置「Teron 640/SL655」および「レチクルデシジョンセンター(RDC)」を発表した。

Teron 640は、デュアルイメージング技術によりマスクショップに必要な感度を提供し、高度な光学マスクの適格性を正確に確認することを可能とする。また、Teron SL655は、受け入れ品質検査において、マスクからゴールデンリファレンスを生成し、この基準値を使用して、マスクの再確認の検査を行う「STARlightGoldテクノロジ」の採用により、ICメーカによるレチクル品質の受け入れ検査、レチクル劣化のモニタ、歩留まりに影響を及ぼすレチクルの欠陥検出を可能とする。また、RDCは、これらの品質測定値を収集し、自動で欠陥処理決定を行うことを可能とし、サイクルタイムの改善や歩留まりに影響を与えるレチクル関連パターンエラーの軽減などを提供する。

なお、すでにTeron 640についてはファウンドリやロジック製造業者に設置され、高性能レチクル品質管理が行われているほか、Teron SL655はレチクル受入品質管理とチップ製造時のレチクルの適格性の再確認に関して、ICメーカと評価中だという。