STマイクロエレクトロニクス(ST)は2月6日、次世代光学MEMSの研究プロジェクトである「Lab4MEMS II」の内容を発表した。
同プロジェクトは欧州の官民パートナーシップであり、社会に重要な影響を与える技術およびアプリケーション分野の開発を目指すENIAC JUが契約し、2013年4月に発表された「Lab4MEMS」プロジェクトを拡張したもの。
当初は圧電・磁気材料に加え、次世代MEMSデバイス用パイロット・ラインの開発に重点を置いていたが、「Lab4MEMS II」ではMEMSとマイクロ光学を融合させた、超小型光学電子機械システム(MOEMS)の研究に取り込むこととなる。具体的には、マイクロ光学技術と標準的な微細加工技術を応用したさまざまなデバイス(光スイッチ、 マイクロミラー、 光クロスコネクト、 レーザー、 およびマイクロレンズなど)の設計・製造・テストに焦点を当てていく。また、1軸デュアルミラーの生産最適化ならびに2軸シングルミラーの開発の可能性について研究することも同プロジェクトの目的のひとつだという。
STは同プロジェクトのパイロット・ラインにおいて200mmウェハ製造設備を拡張すると同時に、光学技術を追加する予定。また、戦略的技術の実用化に向けたノウハウの強化と共に、科学的技術とシリコン上に作製されるスマートマイクロ/ナノシステムの幅広い設計・製造能力を組み合わせるほか、300mmウェハへ移行した場合の潜在的利益とその影響についても評価を行う。
「Lab4MEMS II」は、2013年秋に選出され、2014年11月から作業が開始されている。