ギガフォトンは8月18日、自社の高出力ArF液浸レーザ「GTシリーズ」向けの新機能「eTGM」を発表した。

現在、最先端の半導体製造プロセスで使用されているArF液浸レーザは、レーザガスとして、その全体の96%以上を占めるバッファガスであるネオン、およびフッ素とアルゴンの混合ガスを使用しているため、大量のネオンガスを消費する。一方で、希ガスであるネオンの供給量は現在減少傾向であり、その価格は上昇する気配を見せているため、産業界にとっての懸案事項となっている。

「eTGM」は、ネオンガス消費量の削減を実現するために開発された新技術で、レーザの稼働状況を綿密に監視することにより、ガスの注入量と排気量を自動的に最適化し、レーザの性能を低下させることなく、ネオンガスの使用量を半減することができる。

また、ArF液浸レーザにオプションとして提供されるが、すでにフィールドで稼働しているレーザにも組み込むことができる。さらに、「eTGM」を導入することで、レーザのパドルユニットに新型グリーンモニタ機能がアップグレードとして提供される。これにより、実際の製造環境において、レーザガス消費量をリアルタイムで監視することが可能になるという。