太陽電池の変換効率向上と歩留まり改善を実現するイオン注入装置 - AMAT

Applied Materials(AMAT)は9月30日(米国時間)、太陽電池製造向けイオン注入装置「Applied Solion XP」を発表した。

同製品は、In-situでパターン化ドーパント形成を行うことで、歩留まり低下につながる複数の製造工程の省略を可能とし、高効率の結晶シリコンセルの量産を高い歩留まりと低コストで実現することを可能とする。また、毎時3000ウェハ以上の処理能力を備えつつ、高いアップタイムと信頼性も実現することで、ウェハ1枚当たりのコストの引き下げるが可能だのことで、同社では従来セルやモジュールと同等以下のコストで変換効率22%以上を実現するという業界ロードマップの達成を加速することにつながると説明。

また、太陽電池メーカーは、従来のp型セルからn型セルへと移行を進めているが、n型セルの量産には、精密パターニング、高品位のホウ素ドーピングなどの高度な技術力によってプロセス数を絞り込み、製造工程を簡素化する必要があり、同装置ではドーパント深さ、リンとホウ素のドースと位置を精密に制御することで、n型基板上の高度なセル構造での効率的な活性化とサーマルバジェット全般の低減を可能にするともしている。