東京エレクトロン(TEL)は2月9日、300mmプロセス対応の塗布現像装置(コータ・デベロッパ)「CLEAN TRACK LITHIUSシリーズ」の次世代機種として、従来以上の微細なプロセスに対応する高生産性モデル「CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z」を2012年秋に市場投入することを発表した。

同装置は、2009年にリリースされた「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」の基本コンセプトを発展させ、高スループット化および今後の微細化に伴うディフェクト低減への機能が付加される。

また、OEE(Overall Equipment Efficiency)改善およびランニングコストの低減コンセプトも継続することで、半導体製品の生産性向上を可能にすると同社では説明している。

さらに、次世代半導体露光技術であるEUVなどへのプロセスの拡張性も確保しており、先端プロセスに対応する半導体工場での効率的なデバイス生産環境の構築を実現することができるようになるという。