leadq_mobile=Mentor Graphicsは、中国の合弁ファウンドリShanghai HuaLi Microelectronics(HuaLi)が、65/55/45nmプロセス採用デバイスの開発や量産環境に同社の「Calibre RET」および「OPCコンピュテーショナル・リソグラフィ・プラットフォーム」を採用したことを発表した。

Mentor Graphicsは、中国の合弁ファウンドリShanghai HuaLi Microelectronics(HuaLi)が、65/55/45nmプロセス採用デバイスの開発や量産環境に同社のマスク・レイアウトを対象にしたIC製造時の解像度向上化ツール「Calibre RET」および「OPCコンピュテーショナル・リソグラフィ・プラットフォーム」を採用したことを発表した。

HuaLiは、中国政府、Shanghai Alliance Investment、Shanghai Hua Hong(Group)、Shanghai Grace Semiconductor Manufacturing、Shanghai Hua Hong NEC Electronicsの合弁で設立された新興ファウンドリ。2010年1月に300mmウェハ対応工場を上海で稼働させており、90nmから45nmプロセスまで対応している。

同社は、今回、Mentorのソリューションを導入することを決定した背景として、包括的なベンチマークの結果として精度、使い勝手の良さ、保有コスト(Cost of ownership)、全体的なサポート体制などの面で高い成績を示したこと、ならびにテクノロジ、スケジュール、コストのすべてにおいてニーズを満たしてくれると判断したためと説明している。

また、HauLiはMentorとのパートナーシップにより、GDS IIからテープアウトまでのフローを確立でき、現在のファウンドリ市場で高い競争力を手にすることが可能となるとも説明している。