Cadence Design Systemsは10月8日(現地時間)、露光機のリソグラフィ照明光源を最適化するソフトウェア「Source Mask Optimization(SMO)ソリューション」を発表した。同ソフトは、22nmプロセス以降のIC向けに開発されたもので、リソグラフィ・プロセスで要求されるプロセスウィンドゥと2次元パターン形成を実現することが可能である。
これはTessera Technologiesとの協業により実現したもので、TesseraのDigitalOptics技術を用いて、標準モード、グレイトーン、フリーフォームなどのさまざまなリソグラフィ照明光源に対応する制御を実現した。新機能は、シングルおよびダブル・パターニング・リソグラフィの双方に対応したCadenceのresolution enhancement technology (RET)フローに統合されることとなる。
22nmプロセス以降のICを製造する上で求められる精度のレイアウトパターンを再現するためには、既存のOPCやRETなどの手法では不十分と言われていた。SMOは、RET/OPCのレシピとモデル、マスク製造に関するルール、露光機レンズの偏光特性、フォトレジストの光学上のパラメータ、拡散特性、などの主要な要因を考慮することで、22nmプロセス以降で要求されるレイアウトパターンの再現が可能になるという。